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日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20該臺式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層,例如對非導電樣品進行 SEM 觀察時。
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日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 特點介紹
該臺式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層,例如對非導電樣品進行 SEM 觀察時。
精致、緊湊的設(shè)計和
帶觸摸屏的簡單用戶界面
確保舒適的操作性。
無需惰性氣體
一鍵執(zhí)行從吸塵到涂層的所有操作
將條件保存到庫(最多 10 個)
最多可同時處理 7 個樣品
減少低電流對樣品的損壞
Au、Ag、Pt成型(最大50mmφ)
一套主體+泵+1個目標
即可立即使用
日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 規(guī)格參數(shù)
外形尺寸350×210mm(高230mm)
體重10公斤
電源110V±10%,50/60Hz
離子電流1~10mA(1mA/步)
濺射時間1 至 600 秒(1 秒/步)*約15nm成型,10mA,100秒
靶材金、銀、鉑(50mmφ/99.99%)
腔室尺寸140mmφ(H100mm)
兼容的樣本量50mmφ(H30mm)
該臺式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層,例如對非導電樣品進行 SEM 觀察時。
精致、緊湊的設(shè)計和
帶觸摸屏的簡單用戶界面
確保舒適的操作性。
無需惰性氣體
一鍵執(zhí)行從吸塵到涂層的所有操作
將條件保存到庫(最多 10 個)
最多可同時處理 7 個樣品
減少低電流對樣品的損壞
Au、Ag、Pt成型(最大50mmφ)
一套主體+泵+1個目標
即可立即使用
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